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化學材料

Thin Layer Nano WS2 Dispersion 濃度:1mg/ml，溶劑:水，穩定劑:LiOH

Thin Layer Nano WS2 Dispersion 濃度:1mg/ml，溶劑:水，穩定劑:LiOH

T697686 / 500ML

CAS：12138-09-9

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Thin Layer Nano WS2 Dispersion 1 mg/mL 濃度:5mg/ml，溶劑:乙醇，穩定劑:LiOH

Thin Layer Nano WS2 Dispersion 1 mg/mL 濃度:5mg/ml，溶劑:乙醇，穩定劑:LiOH

T697687 / 40ML

CAS：12138-09-9

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Thin Layer Nano WS2 Dispersion 1 mg/mL 濃度:1mg/ml，溶劑:DMSO（不低於15度保存），穩定劑:LiOH

Thin Layer Nano WS2 Dispersion 1 mg/mL 濃度:1mg/ml，溶劑:DMSO（不低於15度保存），穩定劑:LiOH

T697688 / 200ML

CAS：12138-09-9

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Thin Layer Nano WS2 Dispersion 1 mg/mL 濃度:1mg/ml，溶劑:乙醇，穩定劑:LiOH

Thin Layer Nano WS2 Dispersion 1 mg/mL 濃度:1mg/ml，溶劑:乙醇，穩定劑:LiOH

T697689 / 500ML

CAS：12138-09-9

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Thin Layer Nano WS2 Dispersion 1 mg/mL 濃度:1mg/ml，溶劑:乙醇，穩定劑:LiOH

Thin Layer Nano WS2 Dispersion 1 mg/mL 濃度:1mg/ml，溶劑:乙醇，穩定劑:LiOH

T697689 / 200ML

CAS：12138-09-9

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Thin Layer Nano WS2 Dispersion 1 mg/mL 濃度:1mg/ml溶劑:水，穩定劑:LiOH

Thin Layer Nano WS2 Dispersion 1 mg/mL 濃度:1mg/ml溶劑:水，穩定劑:LiOH

T697690 / 200ML

CAS：12138-09-9

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Thin Layer Nano WS2 Dispersion 1 mg/mL 濃度:1mg/ml溶劑:水，穩定劑:LiOH

Thin Layer Nano WS2 Dispersion 1 mg/mL 濃度:1mg/ml溶劑:水，穩定劑:LiOH

T697690 / 500ML

CAS：12138-09-9

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Tea polysaccharose 60%

Tea polysaccharose 60%

T697756 / 25G

CAS：NONE29612

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Tea polysaccharose 60%

Tea polysaccharose 60%

T697756 / 5G

CAS：NONE29612

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Tantalum powder 99.9% metals basis， ≤10um(FSSS)

Tantalum powder 99.9% metals basis， ≤10um(FSSS)

T697807 / 100G

CAS：7440-25-7

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Tantalum powder 99.9% metals basis， ≤10um(FSSS)

Tantalum powder 99.9% metals basis， ≤10um(FSSS)

T697807 / 25G

CAS：7440-25-7

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Tantalum powder 99.9% metals basis， ≤10um(FSSS)

Tantalum powder 99.9% metals basis， ≤10um(FSSS)

T697807 / 5G

CAS：7440-25-7

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Tantalum powder 99.9% metals basis， ≤10um(FSSS)

Tantalum powder 99.9% metals basis， ≤10um(FSSS)

T697807 / 500G

CAS：7440-25-7

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Tripeptide copper hydrochloride 98%

Tripeptide copper hydrochloride 98%

T697810 / 25G

CAS：NONE30050

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Tripeptide copper hydrochloride 98%

Tripeptide copper hydrochloride 98%

T697810 / 5G

CAS：NONE30050

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Tripeptide copper hydrochloride 98%

Tripeptide copper hydrochloride 98%

T697810 / 100G

CAS：NONE30050

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Tripeptide copper hydrochloride 98%

Tripeptide copper hydrochloride 98%

T697810 / 1G

CAS：NONE30050

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1，3，5-Triazine， 2，4，6-tris(4-nitrophenoxy)-; 99%

1，3，5-Triazine， 2，4，6-tris(4-nitrophenoxy)-; 99%

T697815 / 250MG

CAS：1919-18-2

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1，3，5-Triazine， 2，4，6-tris(4-nitrophenoxy)-; 99%

1，3，5-Triazine， 2，4，6-tris(4-nitrophenoxy)-; 99%

T697815 / 1G

CAS：1919-18-2

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1，3，5-Triazine， 2，4，6-tris(4-nitrophenoxy)-; 99%

1，3，5-Triazine， 2，4，6-tris(4-nitrophenoxy)-; 99%

T697815 / 100MG

CAS：1919-18-2

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T8IC 99%

T8IC 99%

T697852 / 50MG

CAS：2364382-30-7

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TUG-891 95%

TUG-891 95%

T697866 / 25MG

CAS：1374516-07-0

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TUG-891 95%

TUG-891 95%

T697866 / 100MG

CAS：1374516-07-0

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TUG-891 95%

TUG-891 95%

T697866 / 5MG

CAS：1374516-07-0

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2，4，6-Trimethoxyphenol 99%

2，4，6-Trimethoxyphenol 99%

T697899 / 100MG

CAS：20491-92-3

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2，4，6-Trimethoxyphenol 99%

2，4，6-Trimethoxyphenol 99%

T697899 / 5G

CAS：20491-92-3

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2，4，6-Trimethoxyphenol 99%

2，4，6-Trimethoxyphenol 99%

T697899 / 1G

CAS：20491-92-3

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2，4，6-Trimethoxyphenol 99%

2，4，6-Trimethoxyphenol 99%

T697899 / 250MG

CAS：20491-92-3

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Tert-butyl (4-nitrophenyl) carbonate 95%

Tert-butyl (4-nitrophenyl) carbonate 95%

T697952 / 5MG

CAS：13303-10-1

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Tert-butyl (4-nitrophenyl) carbonate 95%

Tert-butyl (4-nitrophenyl) carbonate 95%

T697952 / 1MG

CAS：13303-10-1

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Tris(2-nonylphenyl) phosphate 95%

Tris(2-nonylphenyl) phosphate 95%

T697971 / 250MG

CAS：26569-53-9

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Tectorigenin 99%

Tectorigenin 99%

T697976 / 1G

CAS：548-77-6

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Tectorigenin 99%

Tectorigenin 99%

T697976 / 250MG

CAS：548-77-6

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Tris(2，6-dimethylphenyl) phosphate 95%

Tris(2，6-dimethylphenyl) phosphate 95%

T697977 / 100MG

CAS：121-06-2

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Tachysterol3 98%

Tachysterol3 98%

T697982 / 5MG

CAS：17592-07-3

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Tachysterol3 98%

Tachysterol3 98%

T697982 / 10MG

CAS：17592-07-3

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TBS Buffer 20X， pH7.4

TBS Buffer 20X， pH7.4

T697983 / 500ML

CAS：NONE30040

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TBS Buffer 20X， pH7.4

TBS Buffer 20X， pH7.4

T697983 / 1L

CAS：NONE30040

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Titanium dioxide 99.8% metals basis， 80nm，金紅，親油(KH-570處理)

Titanium dioxide 99.8% metals basis， 80nm，金紅，親油(KH-570處理)

T697991 / 500G

CAS：13463-67-7

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Titanium dioxide 99.8% metals basis， 80nm，金紅，親油(KH-570處理)

Titanium dioxide 99.8% metals basis， 80nm，金紅，親油(KH-570處理)

T697991 / 100G

CAS：13463-67-7

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Titanium dioxide 99.8% metals basis， 60nm，金紅，親油(KH-570處理)

Titanium dioxide 99.8% metals basis， 60nm，金紅，親油(KH-570處理)

T697992 / 500G

CAS：13463-67-7

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Titanium dioxide 99.8% metals basis， 60nm，金紅，親油(KH-570處理)

Titanium dioxide 99.8% metals basis， 60nm，金紅，親油(KH-570處理)

T697992 / 100G

CAS：13463-67-7

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Titanium dioxide 99.8% metals basis， 40nm，金紅，親油(KH-570處理)

Titanium dioxide 99.8% metals basis， 40nm，金紅，親油(KH-570處理)

T697993 / 100G

CAS：13463-67-7

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Titanium dioxide 99.8% metals basis， 40nm，金紅，親油(KH-570處理)

Titanium dioxide 99.8% metals basis， 40nm，金紅，親油(KH-570處理)

T697993 / 500G

CAS：13463-67-7

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Titanium dioxide 99.8% metals basis， 20nm，金紅，親油(KH-570處理)

Titanium dioxide 99.8% metals basis， 20nm，金紅，親油(KH-570處理)

T697994 / 500G

CAS：13463-67-7

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Titanium dioxide 99.8% metals basis， 20nm，金紅，親油(KH-570處理)

Titanium dioxide 99.8% metals basis， 20nm，金紅，親油(KH-570處理)

T697994 / 100G

CAS：13463-67-7

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Thin layer Boron nitride nanoplates 片徑：1-5um 厚度：＜5nm

Thin layer Boron nitride nanoplates 片徑：1-5um 厚度：＜5nm

T698060 / 10G

CAS：10043-11-5

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Thin layer Boron nitride nanoplates 片徑：1-5um 厚度：＜5nm

Thin layer Boron nitride nanoplates 片徑：1-5um 厚度：＜5nm

T698060 / 50G

CAS：10043-11-5

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Thin layer Boron nitride nanoplates 片徑：1-5um 厚度：＜5nm

Thin layer Boron nitride nanoplates 片徑：1-5um 厚度：＜5nm

T698060 / 5G

CAS：10043-11-5

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Thin Layer Nano MoS2 Dispersion 濃度: 0.1mg/ml，溶劑: 乙醇

Thin Layer Nano MoS2 Dispersion 濃度: 0.1mg/ml，溶劑: 乙醇

T698113 / 200ML

CAS：1317-33-5

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地址高雄市鳳山區鳳頂路479號

電話 07-753-9988

傳真 07-753-1958

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